重磅发布 | 源卓微纳量测曝光一体化设备-凯发真人注册

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重磅发布 | 源卓微纳量测曝光一体化设备

发布于 2023年11月02日

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dpm-06 量测曝光一体化设备 重磅发布“用微纳加工改变人类的生活”

源卓微纳针对先进封装应用推出dpm-06量测曝光一体化设备,采用创新型双台面架构、自主研发的实时图形补偿算法、高精度位置测量系统,为扇出(fan out)封装制程解决die shift问题提供整体凯发真人注册的解决方案。

adaptive patterning®技术工作流程
每一个基板的曝光图形都是根据测量数据产生的唯一的曝光图形,并且不需要实体掩模版。

01. 承载die的基板
02. 独立的光学aoi检测设备
03. die位置测量信息
04. 实时生成曝光图形
05. 激光直写ldi设备曝光
06. 曝光完成的基板

 -引自decatechnology


源卓微纳自研的一体化量测曝光设备工作流程


每一个基板的曝光图形都是根据测量数据产生的唯一的曝光图形,并且不需要实体掩模版。

01.  承载die的基板

02.  激光直写ldi设备自身已有量测装置

03.  die位置测量信息

04.  实时生成曝光图形

05.  激光直写ldi设备曝光

06.  曝光完成的基板


相比adaptive patterning®技术,源卓微纳的dpm-06一体化量测曝光设备拥有完全的独立知识产权,并具备以下优势:

1.  量测和曝光一体化设计,利用设备本身的对位传感器进行die位置测量,无需单独的aoi光学量测设备,降低整体成本。

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2.  独有的双台面架构,测量和曝光交替进行,在测量的同时进行曝光,增加产率。

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3.  自主开发的图形补偿软件算法,可高速处理die量测的位置信息,实时生成图形补。

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